G-43B6型高精密單面光刻機

產品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研發的產品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用做一次光刻的產品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。加之光均勻性好（Φ150mm范圍內≤±6%），所以大大提高了設備的光刻質量

主要構成
主要由防震工作臺、高均勻性曝光頭、氣動系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯式真空泵及附件箱等組成。 1. 適用范圍廣Φ150mm以下，厚度(包括非圓形基片

本設備配置有可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。3. 操作簡便

采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。5. 特設功能

主要技術參數：

1、操作方式：手動；

2、曝光模式：接觸式曝光；

3、出射光斑≤φ150mm；

4、紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5、光強≥5mw/cm2（i線365nm; h線405nm; g線453nm的組合紫外光）；

6、曝光分辨率：3um；

7、曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈。